post-cmp 清洗设备（立式）
xtrim-sc-bc300
设备概述
cassette*4（上料，wet）；loadport*4（下料，dry）；mega sc1/brush diw/dhf; marangoni dryer; index robot*2; process robot*2;efem*1;ipa gas box;外置sc1&dhf cds dio3 generator 可选
设备亮点
功能完备
支持双面刷洗、mega清洗、慢提拉干燥。
brush快速更换。
精准高效的取片技术
浸泡槽内立式取片和mapping技术。
多工艺手爪无交叉污染立式取片技术。
定制化设计
支持6”&8”&12”inch wafer。
可根据客户需求进行定制化搭配。
精准化控制
专业流场、温控设计。
精确配液：依工艺选择 流量计/计量泵/称量桶/浓度计。
精确补液：by 片数/时间/浓度。